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一种硅基集成微晃动马达
引用本文:孙曦庆,谢会开,刘理天,李志坚,钱佩信.一种硅基集成微晃动马达[J].半导体学报,1995,16(2):149-152.
作者姓名:孙曦庆  谢会开  刘理天  李志坚  钱佩信
作者单位:清华大学微电子学研究所
摘    要:本文介绍一种硅基集成微晃动马达.该微马达的制作工艺非常简单,主要包括四次光刻(共三块版)、两次LPCVD多晶硅膜淀积和两次LTOSiO2膜淀积.微马达转子和定子由厚度为4.2μm的多晶硅膜形成,转子与定子之间的空气间隙为2.0—2.5μm,转子的半径为40—50μm.初步测量结果表明,微晃动马达的最低驱动电压为49V,最高转速估计可达600rpm。

关 键 词:微晃动马达  马达  硅基  集成
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