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| PECVD镀膜机等离子体静电探针诊断 | |
| 引用本文： | 王庆,巴德纯,徐香坤,徐化冰. PECVD镀膜机等离子体静电探针诊断[J]. 真空科学与技术学报, 2009, 29(3). DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2009.03.23 |
| 作者姓名： | 王庆 巴德纯 徐香坤 徐化冰 |
| 作者单位： | 1. 东北大学,机械工程与自动化学院,沈阳,110004 2. 沈阳理工大学,应用技术学院,抚顺,113122 3. 渤海船舶职业学院,动力工程系,葫芦岛,125000 |
| 摘 要： | 开发了一个朗缪尔探针等离子体诊断系统,对PECVD真空镀膜机进行了等离子体参数诊断.该镀膜机内的等离子体是电容偶合激发方式的氩等离子体,激发源为射频电源(13.56MHz).在射频功率为40W到140W的范围内,使用该朗缪尔探针对镀膜机中氩等离子体的参数(等离子体密度和电子温度)进行了诊断分析.结果表明:电子温度在2.7eV和6.4eV之间,并且随着射频功率的增加而降低.而等离子体的密度在0.85×1015m-3到8×1016m-3的范围随着射频电源的增加而增加. |
| 关 键 词： | 等离子体增强化学气相沉积 镀膜机 等离子体诊断 朗缪尔探针 |
Plasma Diagnosis with Langmuir Probe in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition |
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| Wang Qing,Ba Dechun,Xu Xiangkun,Xu Huabing. Plasma Diagnosis with Langmuir Probe in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2009, 29(3). DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2009.03.23 | |
| Authors: | Wang Qing Ba Dechun Xu Xiangkun Xu Huabing |
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