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| 制备非晶态Si∶F∶H合金膜的新方法 | |
| 作者姓名： | 吴汝麟 何宇亮 邵达 |
| 作者单位： | 南京大学物理系，南京大学物理系，南京大学物理系 |
| 摘 要： | ①用Si H_4+HF混合气氛制备a-Si:F:H合金膜:在国内SiH_4和HF皆有商品供应,容易获取.而且在辉光放电系统中Si H_4的分解要比Si F_4容易.因此,采用SiH_4+FH混合气氛为制备a-Si:F:H合金膜的原料是可行的.在全不锈钢系统中使用r·f辉光放电技术,为了获得均匀的薄膜对气流通入的形式做了必要的改进. |
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