| 衬底离子束表面氮化对ZnO薄膜性质的影响 |
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| 引用本文： | 朱慧群,丁瑞钦,姚若河,吴桐庆.衬底离子束表面氮化对ZnO薄膜性质的影响[J].材料导报,2006,20(7):123-125. |
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| 作者姓名： | 朱慧群 丁瑞钦 姚若河 吴桐庆 |
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| 作者单位： | 1. 五邑大学薄膜与纳米材料研究所,江门,529020
2. 华南理工大学物理科学与技术学院,广州,510641 |
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| 基金项目： | 广东省自然科学基金，广东省江门市科技计划 |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射法在抛光硅片上沉积了一系列ZnO薄膜样品.通过对薄膜样品X射线衍射谱的分析、原子力显微图的观察、吸收光谱和荧光光谱的研究,发现Si衬底的离子束表面氮化对ZnO薄膜的晶体结构、表面形貌和光学性质有重要影响.在衬底温度为200℃、高纯氩氧比例为3:1、压强为1.5Pa的条件下,在经离子束表面氮化预处理的Si衬底上溅射沉积的ZnO薄膜,经450℃真空退火,成为高(0002)晶面取向的ZnO薄膜,并具有良好的光学性质.
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| 关 键 词： | 射频磁控溅射 ZnO薄膜 离子束轰击 衬底表面氮化 |
Influence of Substrate Surface Nitration Treating by Ion Beam on the Properties of ZnO Films |
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| ZHU Huiqun,DING Ruiqin,YAO Ruohe,WU Tongqing.Influence of Substrate Surface Nitration Treating by Ion Beam on the Properties of ZnO Films[J].Materials Review,2006,20(7):123-125. |
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| Authors: | ZHU Huiqun DING Ruiqin YAO Ruohe WU Tongqing |
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| Affiliation: | 1 Institute of Thin Films and Nano-materials,Wuyi University,Jiangmen 529020; College of Physics Science and Technology, South China University of Science and Technology, Guangzhou 510641 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | radio frequency magnetron sputtering ZnO films ion beam bombardment substrates surface nirtation treating |
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