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| PCVD技术在InSb CID焦平面阵列的应用 | |
| 作者姓名： | 李汝彬 |
| 作者单位： | 华北光电技术研究所 |
| 摘 要： | 本文系统描述了用ＰＣＶＤ（光化学汽相淀积）技术在ＩｎＳｂ衬底上沉积ＳｉＯｘＮｙ介质膜的工艺过程。对ＳｉＯｘＮｙ膜进行测试分析，并用它作介质膜，钝化膜，作出了性能较好的ＩｎＳｂ ＣＩＤ焦平面器件。 |
| 关 键 词： | PCVD技术 InSb CID 焦平面阵列 红外 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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