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| 接近式光刻的计算机模拟研究 | |
| 引用本文： | 田学红,刘刚,田扬超,张新夷,张鹏.接近式光刻的计算机模拟研究[J].微细加工技术,2003(2):43-48. |
| 作者姓名： | 田学红 刘刚 田扬超 张新夷 张鹏 |
| 作者单位： | 1. 中国科学技术大学国家同步辐射实验室，合肥230029 2. 复旦大学同步辐射研究中心，上海200433 |
| 基金项目： | 国家重点基础研究发展规划(973)资助项目(G1999033109) |
| 摘 要： | 在接近式光刻中，衬底上的光强分布主要是受掩模与衬底问的间隙引起的衍射影响。一般的模拟分析中，都是利用菲涅尔近似模型进行分析。根据光的标量衍射理论，分析了菲涅尔近似模拟的误差起源，并对菲涅耳近似模型进行了修正，得到了更加准确的类菲涅耳近似模型，对这两种模型的模拟结果进行了比较。结果表明，即使在比较接近掩模表面或非傍轴条件下，类菲涅尔近似模型也能够得到比较精确的模拟结果。 |
| 关 键 词： | 接近式光刻 计算机模拟 标量衍射理论 菲涅尔近似模型 类菲涅耳近似模型 |
| 文章编号： | 1003-8213(2003)02-0043-06 |
| 修稿时间： | 2002年10月28 |
Study on Computer Simulation of Proximity Lithography |
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| Abstract: | |
| Keywords: | contact lithography proximity lithography computer simulation Fresnel diffraction scalar diffraction theory |
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