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分类号
杂志ISSN号
接近式光刻的计算机模拟研究
引用本文:
田学红,刘刚,田扬超,张新夷,张鹏.接近式光刻的计算机模拟研究[J].微细加工技术,2003(2):43-48.
作者姓名:
田学红
刘刚
田扬超
张新夷
张鹏
作者单位:
1. 中国科学技术大学国家同步辐射实验室,合肥230029
2. 复旦大学同步辐射研究中心,上海200433
基金项目:
国家重点基础研究发展规划(973)资助项目(G1999033109)
摘 要:
在接近式光刻中,衬底上的光强分布主要是受掩模与衬底问的间隙引起的衍射影响。一般的模拟分析中,都是利用菲涅尔近似模型进行分析。根据光的标量衍射理论,分析了菲涅尔近似模拟的误差起源,并对菲涅耳近似模型进行了修正,得到了更加准确的类菲涅耳近似模型,对这两种模型的模拟结果进行了比较。结果表明,即使在比较接近掩模表面或非傍轴条件下,类菲涅尔近似模型也能够得到比较精确的模拟结果。
关 键 词:
接近式光刻
计算机模拟
标量衍射理论
菲涅尔近似模型
类菲涅耳近似模型
文章编号:
1003-8213(2003)02-0043-06
修稿时间:
2002年10月28
Study on Computer Simulation of Proximity Lithography
Abstract:
Keywords:
contact lithography
proximity lithography
computer simulation
Fresnel diffraction
scalar diffraction theory
本文献已被
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