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基底温度复合控制对化学气相沉积纳米金刚石薄膜的影响
引用本文:张湘辉,汪灵,龙剑平,邓苗,冯珊. 基底温度复合控制对化学气相沉积纳米金刚石薄膜的影响[J]. 功能材料, 2012, 43(21): 3018-3022
作者姓名:张湘辉  汪灵  龙剑平  邓苗  冯珊
作者单位:1. 成都理工大学材料与化学化工学院,四川成都610059 成都理工大学金刚石薄膜实验室,四川成都610059
2. 成都理工大学材料与化学化工学院,四川成都,610059
基金项目:国家自然科学基金资助项目,国家公益性行业科学专项经费资助项目,四川省科技厅重点科技攻关资助项目,四川省教育厅自然科学资助项目,成都理工大学研究基金资助项目
摘    要:采用自主研制的具有基底温度开-闭环复合自动控制系统的直流弧光放电PCVD设备,当开环流量不同时,在硬质合金基体表面分别进行了纳米金刚石薄膜制备研究。并采用SEM、XRD、激光Raman光谱仪对所制备薄膜的形貌、物相和品质进行了分析。研究结果表明,当开环流量从10→5→15→20mL/min变化时,所制备纳米金刚石薄膜的表面粗糙度及石墨成分会随之增加,金刚石晶粒转变为以(110)面生长为主,且尺寸增大;并加剧了硬质合金基体中Co相粘结剂向基体表面的扩散。温控中基底温度的波动(稳定性)是影响纳米金刚石薄膜生长性能的主要原因。

关 键 词:直流弧光放电等离子体化学气相沉积法  纳米金刚石薄膜  基底温度  开-闭环复合控制

Effects of substrate temperature composite control methods on DC arc discharge plasma CVD nanocrystallite diamond films
ZHANG Xiang-hui,WANG Ling,LONG Jian-ping,DENG Miao,FENG Shan. Effects of substrate temperature composite control methods on DC arc discharge plasma CVD nanocrystallite diamond films[J]. Journal of Functional Materials, 2012, 43(21): 3018-3022
Authors:ZHANG Xiang-hui  WANG Ling  LONG Jian-ping  DENG Miao  FENG Shan
Affiliation:1(1.College of Materials and Chemistry & Chemical Engineering, Chengdu University of Technology,Chengdu 610059,China; 2.Key Laboratory of Diamond Film,Chengdu University of Technology,Chengdu 610059,China)
Abstract:
Keywords:DC arc discharge plasma chemical vapor deposition  nanocrystalline diamond films  substrate temperature  opened and closed loop composite control method
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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