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| 基片负偏压对PEMSIP法高速钢基体TiN涂层结合力的影响 | |
| 引用本文： | 王玉魁,韩会民,高路斯,王传思,刘云月.基片负偏压对PEMSIP法高速钢基体TiN涂层结合力的影响[J].机械工程材料,1995(2). |
| 作者姓名： | 王玉魁 韩会民 高路斯 王传思 刘云月 |
| 作者单位： | 大连理工大学 |
| 基金项目： | 三束材料改性国家重点实验室资助 |
| 摘 要： | 利用等离子体增强磁控溅射离子镀技术，在高速钢基体上沉积ＴｉＮ之前先镀一层很薄的钛膜做界面膜，继之再沉积ＴｉＮ。利用能谱分析研究界面附近的元素成布，通过刻痕试验测定膜与基体之间的结合力。结果表明，沉积钦界面膜时基片负偏压愈大，基体与界面膜之间的过渡区就愈明显，膜与基体结合性能愈好。 |
| 关 键 词： | 等离子体增强，磁控溅射，离子镀，基片负偏压，膜基结合力 |
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