用CVS等方法研究电沉积镍的溶液中添加剂的整平作用和增光作用

在旋转圆盘电极上,用循环伏安溶出法(cvs)研究光亮镀镍电解液中几种添加剂的整平作用。在圆盘电极转速2500rpm 与静止时,分别测定循环伏安曲线上阳极溶出峰面积 Ar 与 As,作出整平能力与添加剂浓度的关系曲线。用整平扩散控制理论,探讨电沉积镍的阴极过程中某些添加剂的整平机理。还应用其他电化学方法研究添加剂增光作用、测定电沉积镍层的韧性、光亮度、电极表面镀前和镀后的微观不平深度,取得与电化学测量的一致结果。指出在现代光亮镀镍工艺中,使用有整平性能的光亮添加剂是使我国光亮镍的电沉积工艺达到世界先进水平的一种有效途径。现代的防护装饰光亮镀镍工艺,要求镀液有优良的整平作用和很快的出光速度;镀层有高度的光亮性和良好的韧性;各种添加剂性能稳定、消耗量少等特点。镀镍溶液较长时期使用的主要添加剂是1.4—丁炔二醇和香豆素。它们与糖精配合可获得光亮平