吸附伏安法测定铝合金中的痕量镓 |
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引用本文: | 王丽增,林清居.吸附伏安法测定铝合金中的痕量镓[J].冶金分析,1990,10(1):1-1. |
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作者姓名: | 王丽增 林清居 |
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作者单位: | 山东大学化学系
(王丽增,林清居,陈荣礼),山东大学化学系(温世祺) |
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摘 要: | 本文报导了在0.3mol/L的HAc—NaAc(pH4.3),苯邻三酚红(PR)4.0×10~(-6)mol/L及十二烷基磺酸钠(SDS)1.0×10~(-6)mol/L的底液中,镓—PR形成—稳定的配合物,还原峰电位-0.89V(对SCE)。预富集60秒镓浓度在1.0×10~(-9)~4.0×10~(-7)mol/L范围内与配合物导数峰高成良好的线性关系。富集90秒检测下限为8.0×10~(-10)mol/L。讨论了其他痕量金属和表面活性剂的干扰,并确定镓与邻苯三酚红络合比为1∶1,可用于铝合金中镓的测
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关 键 词: | 痕量镓 峰电流 吸附伏安法 铝合金 配合物 邻苯三酚红 吸附波 峰高 导数峰 络合物 |
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