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射频磁控共溅射制备超亲水TiO2/SiO2复合薄膜
引用本文:沈杰,沃松涛,蔡臻炜,崔晓莉,杨锡良,章壮健.射频磁控共溅射制备超亲水TiO2/SiO2复合薄膜[J].真空科学与技术学报,2004,24(6):415-419.
作者姓名:沈杰  沃松涛  蔡臻炜  崔晓莉  杨锡良  章壮健
作者单位:复旦大学材料科学系,上海,200433
摘    要:采用射频磁控共溅射法制备了SiO2/TiO2复合薄膜,通过控制SiO2靶与TiO2靶的溅射时间可调节SiO2与TiO2的比例.所制备的SiO2/TiO2薄膜为锐钛矿结构.实验结果表明:SiO2的掺入降低了SiO2/TiO2复合薄膜的光催化能力,但却提高了薄膜的亲水性的维持时间.其中,掺入6%~13%SiO2的SiO2/TiO2复合薄膜,在紫外光照射30 min,接触角降到2°;停止照射后,在5天内接触角小于6°.

关 键 词:射频磁控共溅射  SiO2/TiO2复合薄膜  亲水性  光催化
文章编号:1672-7126(2004)06-0415-05
修稿时间:2004年3月5日

Super-Hydrophilic TiO2/SiO2 Composite Thin Films Prepared by RF Magnetron Co-Sputtering
Shen Jie,Wo Songtao,Cai Zhenwei,Cui Xiaoli,Yang Xiliang and Zhang Zhuangjian.Super-Hydrophilic TiO2/SiO2 Composite Thin Films Prepared by RF Magnetron Co-Sputtering[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2004,24(6):415-419.
Authors:Shen Jie  Wo Songtao  Cai Zhenwei  Cui Xiaoli  Yang Xiliang and Zhang Zhuangjian
Affiliation:Shen Jie,Wo Songtao,Cai Zhenwei,Cui Xiaoli,Yang Xiliang and Zhang Zhuangjian*
Abstract:
Keywords:RF magnetron co-sputtering  TiO  2/SiO  2 composite thin films  Hydrophilicity  Ph otocatalytic
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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