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| 激光沉积法制备近红外高屏蔽性能透明薄膜 | |
| 引用本文： | 朱超,官文超,官文杰,龙华,胡少六,曹远美.激光沉积法制备近红外高屏蔽性能透明薄膜[J].武汉理工大学学报,2005,27(11):11-14. |
| 作者姓名： | 朱超 官文超 官文杰 龙华 胡少六 曹远美 |
| 作者单位： | 1. 华中科技大学化学系,武汉,430074;江汉大学化学与环境工程学院,武汉,430056 2. 华中科技大学化学系,武汉,430074 3. 华中科技大学激光技术国家重点实验室,武汉,430074 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(50374039)，激光国家重点实验室开放项目(0113) |
| 摘 要： | 以金属锌、铁、银为靶材,用准分子脉冲激光沉积法（PLD）,在石英玻璃基片上制备了锌、铁、银的金属氧化物多层薄膜.XRD和AFM研究结果表明薄膜的结晶度很好,晶粒尺寸在30～50 nm,成膜均匀致密,光滑平整;经紫外和红外光谱发现：Ag/Fe/Zn氧化物多层膜反射率小于15%,是一种低反射薄膜,其在可见光区的透过率约为50%（浅蓝灰色）,对紫外的阻隔率大于90%,对近红外的阻隔率大于70%. |
| 关 键 词： | 脉冲激光沉积法 透明薄膜 抗紫外/近红外性能 |
| 文章编号： | 1671-4431(2005)11-0011-03 |
| 修稿时间： | 2005年6月17日 |
Pulsed Laser Deposition of High Anti-infrared Radiation Capacity Transparent Ag/Fe/Zn Oxide Multilayer Film |
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| ZHU Chao,GUAN Wen-chao,GUAN Wen-jie,LONG Hua,HU Shao-liu,CAO Yuan-mei.Pulsed Laser Deposition of High Anti-infrared Radiation Capacity Transparent Ag/Fe/Zn Oxide Multilayer Film[J].Journal of Wuhan University of Technology,2005,27(11):11-14. | |
| Authors: | ZHU Chao GUAN Wen-chao GUAN Wen-jie LONG Hua HU Shao-liu CAO Yuan-mei |
| Abstract: | |
| Keywords: | pulsed laser deposition transparent thin film anti-ultraviolet/near infrared radiation capacity |
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