首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

基底温度对ITO薄膜红外发射特性的影响
引用本文:胡亚兰,刁训刚,郝维昌,王聪,王金良,王天民.基底温度对ITO薄膜红外发射特性的影响[J].红外,2004(1):21-24.
作者姓名:胡亚兰  刁训刚  郝维昌  王聪  王金良  王天民
作者单位:北京航空航天大学理学院材料物理与化学研究中心,北京,100083
基金项目:教育部留学回国人员科研启动基金资助项目
摘    要:本文采用射频磁控溅射法制备ITO薄膜,该薄膜具有较低的红外发射率。利用紫外-可见-近红外分光光度计、红外发射率测量仪、四探针测试仪研究了溅射过程中基底温度对ITO薄膜红外特性和光电性能的影响,并且用AFM对ITO薄膜的表面形貌进行了表征。实验发现,随着基底温度的升高,薄膜的表面颗粒增大,透过率、方块电阻、平均红外发射率均会降低。本文还讨论了8μm~14μm波段平均红外发射率与方块电阻之间的关系。

关 键 词:基底温度  ITO薄膜  红外发射  射频磁控溅射法  紫外-可见-近红外分光光度计  四探针测试仪  薄膜表面表征  透过率  氧化铟锡

Effect of Different Substrate Temperatures on the Infrared Emissivity Properties of Indium Tin Oxide (ITO) Thin Films
HU Yalan DIAO Xungang HAO Weichang WANG Cong WANG Jinliang WANG Tianmin.Effect of Different Substrate Temperatures on the Infrared Emissivity Properties of Indium Tin Oxide (ITO) Thin Films[J].Infrared,2004(1):21-24.
Authors:HU Yalan DIAO Xungang HAO Weichang WANG Cong WANG Jinliang WANG Tianmin
Abstract:
Keywords:ITO film  substrate temperature  transmittance  sheet resistance  infrared emis- sivity
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《红外》浏览原始摘要信息
点击此处可从《红外》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号