| 激光印痕研究中的硅平面薄膜和刻蚀膜 |
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| 引用本文： | 周斌,王珏,韩明,徐平,沈军,邓忠生,吴广明,张勤远,陈玲燕,王跃林. 激光印痕研究中的硅平面薄膜和刻蚀膜[J]. 原子能科学技术, 2001, 35(4): 300304 |
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| 作者姓名： | 周斌 王珏 韩明 徐平 沈军 邓忠生 吴广明 张勤远 陈玲燕 王跃林 |
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| 作者单位： | 1. 同济大学波耳固体物理研究所，上海 200092
2. 上海冶金研究所传感器国家重点联合实验室，上海 200050 |
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| 基金项目： | 国家“863”惯性约束聚变领域资助课题（863-416-3-6.6） |
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| 摘 要： | 研制了用于激光印痕研究的Si平面薄膜和刻蚀膜。膜制备的主要工艺采用氧化、扩散、光刻等现代半导体技术，并结合自截止腐蚀技术。Si平面膜厚度为3～4μm，表面粗糙度为几十nm。采用离子束刻蚀工艺，在Si膜表面引入25μm×25μm的网格图形或线宽为5μm的条状图形，获得了相应图形的Si刻蚀膜。探讨了扩散、氧化、腐蚀工艺对自支撑Si平面薄膜的表面粗糙度的影响，研究了离子束刻蚀参数对刻蚀图形形貌的影响。
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| 关 键 词： | 激光印痕靶；自截止腐蚀；离子束刻蚀 |
| 文章编号： | 1000-6931（2001）04-0300-05 |
| 修稿时间： | 2000-03-03 |
The Thin Silicon Foil and Silicon Grating Foil Used in Laser Imprint Research |
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| ZHOU Bin ,WANG Jue ,HAN Ming ,XU Ping ,SHEN Jun ,DENG Zhong-sheng ,_WU Guang-ming ,ZHANG Qin-yuan ,CHEN Ling-yan ,WANG Yue-lin __. The Thin Silicon Foil and Silicon Grating Foil Used in Laser Imprint Research[J]. Atomic Energy Science and Technology, 2001, 35(4): 300304 |
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| Authors: | ZHOU Bin WANG Jue HAN Ming XU Ping SHEN Jun DENG Zhong-sheng _WU Guang-ming ZHANG Qin-yuan CHEN Ling-yan WANG Yue-lin __ |
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| Affiliation: | ZHOU Bin 1,WANG Jue 1,HAN Ming 2,XU Ping 1,SHEN Jun 1,DENG Zhong-sheng 1,_WU Guang-ming 1,ZHANG Qin-yuan 1,CHEN Ling-yan 1,WANG Yue-lin 2__ |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | laser imprint self-stop etching process ion beam etching |
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