| 预先老化对注F nMOS器件辐射可靠性的影响 |
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| 引用本文： | 崔帅,余学峰,任迪远,张华林,艾尔肯.预先老化对注F nMOS器件辐射可靠性的影响[J].半导体学报,2005,26(1):111-114. |
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| 作者姓名： | 崔帅 余学峰 任迪远 张华林 艾尔肯 |
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| 作者单位： | 中国科学院新疆理化技术研究所,乌鲁木齐,830011;中国科学院新疆理化技术研究所,乌鲁木齐,830011;中国科学院新疆理化技术研究所,乌鲁木齐,830011;中国科学院新疆理化技术研究所,乌鲁木齐,830011;中国科学院新疆理化技术研究所,乌鲁木齐,830011 |
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| 摘 要： | 对注F和未注F CC4007器件在100℃高温老化后的Co60辐照特性进行了研究．研究发现辐照前的高温老化减少了注F器件在辐照中的界面态陷阱电荷的积累，但是普通器件辐照前的高温老化在减少辐照中界面态积累的同时却增加了氧化物电荷的积累，损害了器件的可靠性．可见，栅介质中F离子的引入可以明显提高器件的可靠性．
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| 关 键 词： | 预先老化 辐照 注F 可靠性 |
| 文章编号： | 0253-4177(2005)01-0111-04 |
| 修稿时间： | 2003年11月23日 |
Effect of Burn-in on Irradiation Reliablity of Fluorinated nMOSFET |
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| Cui Shuai,Yu Xuefeng,Ren Diyuan,Zhang Hualin,and Arikin.Effect of Burn-in on Irradiation Reliablity of Fluorinated nMOSFET[J].Chinese Journal of Semiconductors,2005,26(1):111-114. |
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| Authors: | Cui Shuai Yu Xuefeng Ren Diyuan Zhang Hualin and Arikin |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | radiation pre-irradiation burn-in fluorinated reliability |
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