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衬底温度和生长速率对MBE自组织生长InxGa1-xAs/GaAsQD的影响
引用本文:于磊  曾一平  潘量 孔梅影  李晋闽  李灵霄. 衬底温度和生长速率对MBE自组织生长InxGa1-xAs/GaAsQD的影响[J]. 半导体学报, 2000, 21(7): 652-656
作者姓名:于磊  曾一平  潘量 孔梅影  李晋闽  李灵霄
作者单位:于磊(中国科学院半导体研究所新材料部,北京100083);曾一平(中国科学院半导体研究所新材料部,北京 100083);潘量(中国科学院半导体研究所新材料部,北京 100083);孔梅影(中国科学院半导体研究所新材料部,北京 100083);李晋闽(中国科学院半导体研究所新材料部,北京 100083);李灵霄(中国科学院半导体研究所新材料部,北京 100083)
摘    要:研究GaAs基In

关 键 词:In
文章编号:0253-4177(2000)07-0652-05
修稿时间:1999-05-14

Influence of Growth Rateand Substrate Temperature on Self-Organized InxGa1-xAs/GaAs Quantum Dots Grown by MBE
YU Lei ,ZENG Yi-ping ,PAN Liang,KONG Mei-ying ,LI Jin-min ,LI Ling-xiao. Influence of Growth Rateand Substrate Temperature on Self-Organized InxGa1-xAs/GaAs Quantum Dots Grown by MBE[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 2000, 21(7): 652-656
Authors:YU Lei   ZENG Yi-ping   PAN Liang  KONG Mei-ying   LI Jin-min   LI Ling-xiao
Affiliation:YU Lei ,ZENG Yi-ping ,PAN Liang,KONG Mei-ying ,LI Jin-min ,LI Ling-xiao ;(Department of New Materials, Institute of Semiconductors, The Chinese Academy ofSciences, Beijing 100083, China)
Abstract:
Keywords:
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