一种适合半导体低温工艺利用光能制造薄膜的新技术

本文介绍了一种利用光能进行薄膜制造、加工的新技术。为了满足降低半导体制速工艺中处理温度的要求,除了用热能(温度)外,还可以采用光能来制造薄膜。文中给出了用紫外激光照射Al(CH_3)_3来淀积Al、用在200℃下的紫外线照射SiH_4和N_2O混合气体制造优质SiO_2膜的实例。若用卤化物作反应介质,还可以进行腐蚀;用掺杂氧化物可以掺杂。目前以美国为主,已着手开展这方面的研究。