| TiNi合金表面TiO2薄膜的制备及光充电性能 |
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| 引用本文： | 黄辉 张文魁 甘永平 梁志宏. TiNi合金表面TiO2薄膜的制备及光充电性能[J]. 稀有金属材料与工程, 2005, 34(12): 1890-1893 |
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| 作者姓名： | 黄辉 张文魁 甘永平 梁志宏 |
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| 作者单位： | 浙江工业大学,浙江,杭州,310014 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金（50201016）和浙江省自然科学基金（Y404044） |
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| 摘 要： | 采用热氧化方法在TiNi合金表面制备了TiO2薄膜，并考察了TiO2／TiNi电极在KOH溶液中的光电化学性能。结果表明，TiNi贮氢合金表面形成的TiO2薄膜为金红石型，结晶度随氧化温度升高逐渐增大；TiO2薄膜结构、光电流和界面阻抗之间存在良好的相关性，700℃制备的TiO2薄膜光响应电流最大，电极阻抗谱与镍氢电池体系合金负极阻抗特征相似，高频区半圆对应于吸附氢的形成，而低频区Warburg线性关系则反映了氢在电极中的固态扩散过程；在光照射下具有特殊的光充电贮氢性能，放电容量从暗态时的5mAh／g提高至光照时的15mAh／g，对光充电反应机理作了初步分析。
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| 关 键 词： | TiO2薄膜 光电化学 光充电性能 TiNi贮氢合金 热氧化 |
| 文章编号： | 1002-185X(2005)12-1890-04 |
| 收稿时间： | 2004-09-06 |
| 修稿时间： | 2005-03-24 |
Preparation and Photo-Rechargeable Properties of TiO2 Film Thermally Formed on Surface of TiNi Alloys |
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| Huang Hui,Zhang Wenkui,Gan Yongping,Liang Zhihong. Preparation and Photo-Rechargeable Properties of TiO2 Film Thermally Formed on Surface of TiNi Alloys[J]. Rare Metal Materials and Engineering, 2005, 34(12): 1890-1893 |
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| Authors: | Huang Hui Zhang Wenkui Gan Yongping Liang Zhihong |
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| Affiliation: | Zhej iang University of Technology, Hangzhou 310014, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | TiO2 films photoelectrochemistry photorechargeable properties TiNi hydrogen storage alloy thermally oxidation |
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