钯镍合金电沉积层的XRD研究 |
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引用本文: | 李凤凌,杨防祖,李振良,佘沛亮,姚士冰,周绍民.钯镍合金电沉积层的XRD研究[J].材料保护,1999,32(3):4-5. |
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作者姓名: | 李凤凌 杨防祖 李振良 佘沛亮 姚士冰 周绍民 |
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作者单位: | 厦门大学化学系,361005 |
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摘 要: | 利用X-射线衍射技术对钯镍合金镀的微观结构,特别是晶体的微晶尺寸,晶胞参数,微观应力,择优取向等进行了研究。实验发现,该合金镀层为面心立方的固溶体结构,呈(200)择优取向,晶胞参数随镀层中镍含量的增大而减小,镀层的微晶尺寸及微观应力等随镀层中镍含量的增大而增大。
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关 键 词: | 钯镍合金镀层 电沉积 |
Microstructure of Pd-Ni Alloy Electrodeposit |
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Abstract: | |
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Keywords: | XRD |
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