| 氩离子辐照对ZrO2—Y2O3薄膜的结构影响 |
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| 引用本文： | 黄宁康,冯志蓉.氩离子辐照对ZrO2—Y2O3薄膜的结构影响[J].原子能科学技术,1992,26(6):30-35. |
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| 作者姓名： | 黄宁康 冯志蓉 |
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| 作者单位： | 四川大学原子核科学技术研究所，四川大学原子核科学技术研究所，四川大学原子核科学技术研究所 成都 610064，成都 610064，成都 610064 |
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| 摘 要： | 为了研究离子辐照对薄膜结构的影响,对氩离子辐照磁控溅射沉积的ZrO_2-8%(m/m)Y_20_3薄膜,用XRD、AES及XPS进行微观分析。结果表明,溅射沉积的无定形薄膜经离子辐照后发生了晶化,膜内元素与基体元素发生了显著的混合,表面污染的碳向膜内迁移。此外,还研究磁控溅射沉积ZrO_2-8%(m/m)Y_2O_3薄膜氩离子辐照前后表面Zr(3d),Y(3d),O(1s)结合能的位移情况。
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| 关 键 词： | 离子 辐照 氩 薄膜 氧化锆 氧化钇 |
EFFECTS OF THE ARGON ION IRRADIATION ON THE MICROSTRUCTURE OF ZrO_2-Y_2O_3 FILMS |
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| HUANG NINGKANG FENG ZHIRONG WANG DEZHI.EFFECTS OF THE ARGON ION IRRADIATION ON THE MICROSTRUCTURE OF ZrO_2-Y_2O_3 FILMS[J].Atomic Energy Science and Technology,1992,26(6):30-35. |
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| Authors: | HUANG NINGKANG FENG ZHIRONG WANG DEZHI |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Ion irradiation Magnetron sputtering deposited ZrO_2-8%(m/m)Y_2O_3 films Microanalyses |
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