| 光瞳滤波光刻图形质量影响因素分析 |
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| 引用本文： | 陈旭南,石建平,罗先刚,康西巧.光瞳滤波光刻图形质量影响因素分析[J].微纳电子技术,2004,41(9):41-43. |
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| 作者姓名： | 陈旭南 石建平 罗先刚 康西巧 |
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| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(69876041) |
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| 摘 要： | 在阐述投影成像光刻光瞳滤波技术原理与滤波器设计的基础上,详细分析研究了滤波成像光刻图形质量影响因素。指出影响图形质量的因素除了滤波器设计本身存在误差,主要还存在滤波器的制作误差、滤波器在成像光路中放置的位置误差和光刻工艺条件等因素。实验表明只有注意控制好这些影响因素,才能很好挖掘该技术提高光刻分辨力、增大焦深的潜能。
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| 关 键 词： | 光瞳滤波 光刻图形质量影响因素 分辨力 焦深 |
| 文章编号： | 1671-4776(2004)09-0041-03 |
| 修稿时间： | 2004年3月25日 |
The factors of influence on quality of patterns in pupil filtering photo-lithography |
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| CHEN Xu-nan,SHI Jian-ping,LUO Xian-gang,KANG Xi-qiao.The factors of influence on quality of patterns in pupil filtering photo-lithography[J].Micronanoelectronic Technology,2004,41(9):41-43. |
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| Authors: | CHEN Xu-nan SHI Jian-ping LUO Xian-gang KANG Xi-qiao |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | pupil filtering influence factors on photolithography patters resolution focal depthj |
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