超导外延薄膜YBa2Cu3O7-δ的氧化过程研究 |
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作者姓名: | 李力 |
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作者单位: | 武汉理工大学新材料研究所 |
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摘 要: | 通过比较磁控溅射C取向导优质外延膜YBa2Cu3O7-δ四周封铟样品的低温进氧过程,发现氧不能扩散进入封铟样品。表明薄膜的自由表面阻碍氧扩散进入,薄膜的氧化过程中存在两条氧原子流:主要的氧原子流通过刃位错增强的点阵扩散:少量原子流是沿螺位错的螺旋面点阵扩散进入晶粒内,封铟实验可以区分这两条氧原子流。
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关 键 词: | 超导外延薄膜 扩散 YBa2Cu3O7-δ 氧化过程 氧原子流 封铟实验 镱 钡 铜 复合氧化物 |
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