|
|||||
|
|
| 离子束溅射沉积Fe/Si多层膜法合成β-FeSi_2薄膜的研究 | |
| 引用本文： | 张娟,沈鸿烈,鲁林峰,唐正霞,江丰,李斌斌,刘恋慈,沈洲.离子束溅射沉积Fe/Si多层膜法合成β-FeSi_2薄膜的研究[J].功能材料,2010,41(5). |
| 作者姓名： | 张娟 沈鸿烈 鲁林峰 唐正霞 江丰 李斌斌 刘恋慈 沈洲 |
| 作者单位： | 南京航空航天大学,材料科学与技术学院,江苏,南京,210016 |
| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目 |
| 摘 要： | 采用离子束溅射沉积Fe/Si多层膜的方法在石英衬底上制备了β-FeSi2薄膜,研究了不同厚度比的Fe/Si多层膜对β-FeSi2薄膜的结构性能、形貌及光学性能的影响。结果表明,厚度比为Fe(2nm)/Si(7.4nm)的多层膜在退火后完全生成了β-FeSi2相,表面致密均匀,其光学带隙为0.84eV,能量为1.0eV光子的吸收系数105cm-1。 |
| 关 键 词： | β-FeSi2 离子束溅射沉积 Fe/Si多层膜 石英衬底 |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ | |