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PZT/LaNiO3/MgO多层结构制备及性能研究
引用本文:张洪伟,张树人,黄文,刘敬松,杨成韬. PZT/LaNiO3/MgO多层结构制备及性能研究[J]. 压电与声光, 2007, 29(5): 586-588
作者姓名:张洪伟  张树人  黄文  刘敬松  杨成韬
作者单位:电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划)
摘    要:利用激光脉冲法在MgO衬底上沉积制备LaNiO3(LNO)薄膜作为底电极材料,其上利用射频磁控溅射制备了锆钛酸铅(PZT)铁电薄膜。试验分析了LaNiO3表面结构和形貌,采用快速退火法在不同温度下对样品进行了热处理,发现在500℃即得到(110)取向、晶化完全的PZT薄膜。在5 V测试电压下发现650℃下晶化的样品表现出非常优异的介电和铁电性能,介电常数(rε,)和损耗(tanδ)分别达570和0.05,漏电流在10-9A量级,电滞回线完全饱和且形状对称,剩余极化强度(Pr)和矫顽场(Ec)分别为35.8μC/cm2和76.3 kV/cm。

关 键 词:锆钛酸铅(PZT)  激光脉冲沉积  射频磁控溅射  退火
文章编号:1004-2474(2007)05-0586-03
修稿时间:2006-06-19

Study on PZT/LaNiO3/MgO Heterostructures and Its Properties
ZHANG Hong-wei,ZHANG Shu-ren,HUANG Wen,LIU Jing-song,YANG Cheng-tao. Study on PZT/LaNiO3/MgO Heterostructures and Its Properties[J]. Piezoelectrics & Acoustooptics, 2007, 29(5): 586-588
Authors:ZHANG Hong-wei  ZHANG Shu-ren  HUANG Wen  LIU Jing-song  YANG Cheng-tao
Affiliation:State Key Lab. of Electronic Thin Films and Integrated Devices, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu 610054, China
Abstract:
Keywords:LaNiO3
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