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AMT保护青铜的研究
引用本文:朱一帆,李大刚,施兵兵,万俐,徐飞,陶保成.AMT保护青铜的研究[J].材料保护,1998(5).
作者姓名:朱一帆  李大刚  施兵兵  万俐  徐飞  陶保成
作者单位:南京化工大学化学系,南京博物院
摘    要:采用电化学方法和XPS、AES法研究5-氨基-2-巯基-1、3、4-噻二唑(AMT)在青铜表面形成的保护膜。结果表明,AMT溶液处理后的青铜试片在pH值为7的0.5mol/LNa2SO4和5%NaCl溶液中,其腐蚀过程受到了明显抑制,是由于AMT在青铜表面形成Cu(I)AMT络合物膜,其结构为Cu|Cu2O|Cu(I)AMT。

关 键 词:缓蚀剂  青铜  络合物  极化曲线
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