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微小等离子体发生器刻蚀机理的研究
引用本文:王海,文莉,向伟伟,张秋萍,褚家如. 微小等离子体发生器刻蚀机理的研究[J]. 微细加工技术, 2008, 0(5)
作者姓名:王海  文莉  向伟伟  张秋萍  褚家如
作者单位:1. 安徽工程科技学院机械工程系,芜湖,241000
2. 中国科学技术大学工程科学学院,合肥,230027
基金项目:国家自然科学基金 , 安徽工程科技学院校科研和教改项目 , 安徽工程科技学院校科研和教改项目  
摘    要:采用二维流体模型对扫描刻蚀加工中的微小等离子体发生器的刻蚀机理进行了数值仿真研究.该微小等离子体发生器为微空心阴极放电器件,当工作气体为SF6,工作气压在5 kPa~9 kPa时,空心阴极处微孔半径为0.25 tzm时,空心阴极外部区域的F原子的有效弥散长度在0.5 μm~1.8μm之间变化,且浓度在3×lO11 cm-3~1.7×1012cm-3之间,基本满足扫描刻蚀加工的需求.

关 键 词:扫描等离子体刻蚀  等离子体模拟  微小等离子体

Etching Mechanism of Microplasma Reactor for Scanning Plasma Etching
WANG Hai,WEN Li,XIAN Weiwei,ZHANG Qiuqing,CHU Jiaru. Etching Mechanism of Microplasma Reactor for Scanning Plasma Etching[J]. Microfabrication Technology, 2008, 0(5)
Authors:WANG Hai  WEN Li  XIAN Weiwei  ZHANG Qiuqing  CHU Jiaru
Affiliation:WANG Hai1,WEN Li2,XIAN Wei-wei2,ZHANG Qiu-qing2,CHU Jia-ru2(1.Department of Mechanical Engineering,Anhui University of Technology & Science,Wuhu 241000,China,2.School of Engineering Science,University of Science , Technology of China,Hefei 230027,China)
Abstract:
Keywords:scanning plasma etching  plasma modeling  micro plasma  
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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