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| 直流溅射中氮气分量对氮化锆薄膜性质的影响 | |
| 引用本文： | 胡莉莉,李德杰.直流溅射中氮气分量对氮化锆薄膜性质的影响[J].真空科学与技术,2003,23(5):347-349. |
| 作者姓名： | 胡莉莉 李德杰 |
| 作者单位： | 清华大学电子工程系，北京100084 |
| 摘 要： | 用直流溅射方法制备氮化锆薄膜，其晶体结构，氮原子组分以及电阻率都与溅射气氛中氮气分量有直接关系。用X射线衍射分析薄膜结构，随氮气分量由5％至30％增加，玻璃衬底上的氮化锆薄膜首先呈(111)和(200)两主要生长取向；然后(200)取向逐渐消失，只有(111)单个优化生长取向；最后，没有衍射峰出现，薄膜趋于无定型结构。 |
| 关 键 词： | 氮化锆 直流反应溅射 氮气分量 结晶取向 电阻率 |
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