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| 直流磁控溅射法在PET基板上制备AZO薄膜 | |
| 引用本文： | 王翠凤,邱锡荣,赵乙璇,欧耿良.直流磁控溅射法在PET基板上制备AZO薄膜[J].中国表面工程,2012,25(6):53-60. |
| 作者姓名： | 王翠凤 邱锡荣 赵乙璇 欧耿良 |
| 作者单位： | 1. 福建信息职业技术学院机电工程系,福州,350003 2. 高雄应用科技大学模具工程系,中国台湾高雄80706 3. 台北医学大学口腔医学院,中国台湾台北11041 |
| 基金项目： | 福建省教育厅自然科学基金(JA11306) |
| 摘 要： | 室温下用直流磁控溅射法在PET塑料基板上制备氧化锌薄膜及掺铝氧化锌AZO(ZnO∶Al)薄膜.通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、四点探针仪、霍尔效应仪及光谱仪等装置,考察了氧分率、溅射功率及铝掺杂量等工艺参数对薄膜微观结构和光电性能的影响.结果表明:AZO薄膜晶体结构为纯ZnO的六角纤锌矿结构.随着Al掺杂量增多,AZO薄膜导电性增加,透光率下降.在氧分率为8.2％,ZnO(40 nm)/Al(6 nm)三层膜条件下,得到电阻率为5.66×10-2Ω·cm,可见光范围内透光率约为80％的AZO薄膜. |
| 关 键 词： | AZO PET基板 透明导电膜 直流磁控溅射 |
Preparation of AZO Thin Films on PET Substrate Using DC Magnetron Sputtering |
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| WANG Cui-feng,CHIOU Shi-yung,JHAO Yi-syuan,OU Keng-liang.Preparation of AZO Thin Films on PET Substrate Using DC Magnetron Sputtering[J].China Surface Engineering,2012,25(6):53-60. | |
| Authors: | WANG Cui-feng CHIOU Shi-yung JHAO Yi-syuan OU Keng-liang |
| Affiliation: | WANG Cui-feng1,CHIOU Shi-yung2, JHAO Yi-syuan2,OU Keng-liang3(1.Department of Mechanical and Electrical Engineering,Fujian Polytechnic of Information Technology,Fuzhou 350003;2.Department of Mold and Die Engineering,National Kaohsiung University of Applied Science,Kaohsiung 80706,Taiwan,China;3.College of oral medicine,Taipei Medical University,Taipei 11041,Taiwan,China) |
| Abstract: | |
| Keywords: | AZO PET substrate transparent conductive films DC magnetron sputtering |
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