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集成电路离子注入机发展现状与趋势
作者姓名:张丛  曾安生  李士会  张喻召
摘    要:离子注入机是集成电路制造的核心装备之一,本文重点介绍了当前集成电路领域离子注入机的分类和基本性能参数,描述了其系统组成以及相关的关键技术;同时,基于集成电路发展趋势,分析了集成电路离子注入机的发展趋势.

关 键 词:离子注入机  集成电路  大束流离子注入机  中束流离子注入机  高能离子注入机
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