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微显示器和晶圆技术的现状及展望
引用本文:黄河,蒲贤勇,唐德明.微显示器和晶圆技术的现状及展望[J].现代显示,2005,263(10):10-18.
作者姓名:黄河  蒲贤勇  唐德明
作者单位:中芯国际集成电路制造有限公司,上海,201203
摘    要:介绍LCD、DMD和LCOS三大主流微显示器的构造、制作和基于微显示技术的投影显示基本原理,并展望其发展趋势及中芯国际的LCOS开发成果.

关 键 词:微显示器  晶圆制造技术  投影显示
文章编号:1006-6268(2005)10-0010-09
收稿时间:2005-08-16
修稿时间:2005年8月16日

Status and Prospectus of Silicon-Based Microdisplay and Wafer Process Technology
HUANG He,PU Xian-yong,TANG De-ming.Status and Prospectus of Silicon-Based Microdisplay and Wafer Process Technology[J].Advanced Display,2005,263(10):10-18.
Authors:HUANG He  PU Xian-yong  TANG De-ming
Abstract:Introduction is provided to the microstructure of the three main-stream microdisplay device technologies, LCD, DMD and LCOS, and the electrical-optical operating principles of these micro device operation for projection display, A prospective analysis is also presented on their future development besides the status report on the LCOS backplane wafer process technology development at SMIC.
Keywords:microdisplay  silicon wafer manufacturing technology  projection display  
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