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宽势阱半导体光电器件研究
引用本文:陈钟谋,桂德成,朱健,钱辉作. 宽势阱半导体光电器件研究[J]. 固体电子学研究与进展, 2000, 20(2): 195-199
作者姓名:陈钟谋  桂德成  朱健  钱辉作
作者单位:南京电子器件研究所,210016
基金项目:国家自然科学基金资助项目 !(编号 :6 92 76 0 2 7)
摘    要:设计了一种新型宽势阱光电探测器件。介绍了该器件的结构形式、电流传输机制以及隧道效应和偏压对器件光探测灵敏度的影响。当器件光敏面积为 4 mm2 时 ,在光源测试条件为 :2 856 ,1 90 0 0 lx下 ,光电流达 0 .6 m A,加 1 .5 V反偏时达 2 4 m A,灵敏度分别为 2 .9A/ W及1 1 9A/ W。

关 键 词:宽势阱光电器件  少子库  势垒高度  隧道效应
修稿时间:1998-07-15

Research of the Wide Barrier Photoelectric Device
Chen Zhongmou Gui Decheng Zhu Jian Qian Huizuo. Research of the Wide Barrier Photoelectric Device[J]. Research & Progress of Solid State Electronics, 2000, 20(2): 195-199
Authors:Chen Zhongmou Gui Decheng Zhu Jian Qian Huizuo
Abstract:A new wide barrier photoelectric device and its structure are described. The current transport mechanism and the influences of tunnel effect and bias to the device photo sensitivity are analyzed. With 4 mm 2 sensitive area of deveice, under 2 856 , 19 000 lx illumination, the photo current reaches 0.6 mA, and reaches 24 mA when applying 15 V of reverse bias, hereby the sensitivity is corresponding to 2.9 A/W and 119 A/W respectively.
Keywords:wide barrier photoelectric device  minority carriers storehouse  potential barrier  tunnel effect
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