| 离子束辅助中频反应溅射 (Cr,Ti,Al)N薄膜的研究 |
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| 引用本文： | 林松盛,代明江,侯惠君,朱霞高,李洪武,林凯生,戴达煌.离子束辅助中频反应溅射 (Cr,Ti,Al)N薄膜的研究[J].真空科学与技术学报,2006,26(Z1):162-165. |
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| 作者姓名： | 林松盛 代明江 侯惠君 朱霞高 李洪武 林凯生 戴达煌 |
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| 作者单位： | 1. 广州有色金属研究院材料表面中心,广州,510651;广东工业大学,广州,510090
2. 广州有色金属研究院材料表面中心,广州,510651 |
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| 摘 要： | 为了提高工模具的服役性能,采用中频反应溅射,无灯丝离子源辅助的方法沉积了(Cr,Ti,Al)N多元硬质薄膜.分别用电子能谱、X-射线衍射、显微硬度计、划痕仪和干涉显微镜分析了薄膜的成分、相组成、硬度、膜/基结合力及膜层厚度.结果表明用此法制备的薄膜为含有多相结构的(Cr,Ti,Al)N多元硬质膜,晶粒细小,沉积速率快,显微硬度高达35 GPa,结合强度高度达80 N,综合性能优异.
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| 关 键 词： | 薄膜(Cr Ti Al)N 中频反应溅射 离子束辅助 多元 |
| 文章编号： | 1672-7126(2006)增-0162-04 |
| 修稿时间： | 2005年9月1日 |
Characterization and Growth of (Cr, Ti, Al) N Films by Ion Beam Assisted Twin-Target Reactive Magnetron Sputtering |
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| Lin Songsheng,Dai Mingjiang,Hou Huijun,Zhu Xiagao,Li Hongwu,Lin Kaisheng,Dai Dahuang.Characterization and Growth of (Cr, Ti, Al) N Films by Ion Beam Assisted Twin-Target Reactive Magnetron Sputtering[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2006,26(Z1):162-165. |
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| Authors: | Lin Songsheng Dai Mingjiang Hou Huijun Zhu Xiagao Li Hongwu Lin Kaisheng Dai Dahuang |
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