| GaN基蓝光激光器光场特性模拟 |
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| 作者姓名： | 叶晓军 朱晓鹏 徐云 孙永伟 侯识华 种明 陈良惠 |
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| 作者单位： | 中国科学院半导体研究所,北京,100083;中国科学院半导体研究所,北京,100083;中国科学院半导体研究所,北京,100083;中国科学院半导体研究所,北京,100083;中国科学院半导体研究所,北京,100083;中国科学院半导体研究所,北京,100083;中国科学院半导体研究所,北京,100083 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | 采用有限差分法对Ga N基多量子阱(MQWs)脊形激光器进行二维光场模拟.In Ga N和Al Ga N材料的折射率分别由修正的Brunner以及Bergm ann方法得到.分析了激光器单模特性和远场发散角同器件的脊形刻蚀深度和脊形条宽的关系.研究了在脊形上用Si/ Si O2 膜取代传统Si O2 介质膜这种新的脊形设计对激光器结构参数的影响.模拟结果发现,脊形条宽越窄,脊形刻蚀深度越深,平行结平面方向的发散角越大,但由此会引起单模特性不稳定,两者之间有一个折衷值.通过引入新的脊形设计,可以降低对器件刻蚀深度精度的要求,同时有很好的单模稳定性
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| 关 键 词： | 二维光场模拟 GaN激光器 脊形宽度 刻蚀深度 发散角 |
| 文章编号： | 0253-4177(2004)08-1004-05 |
| 修稿时间： | 2003-08-23 |
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