用分割靶法制备Y_(1-x)Ho_xBa_2Cu_3O_(7-δ)超导薄膜 |
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作者姓名: | 彭正顺 杨秉川 王小平 石东奇 华志强 赵忠贤 |
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作者单位: | 北京有色金属研究总院,中国科学院物理研究所 |
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摘 要: | 本文利用直流磁控溅射技术,在(100)钇稳定的ZrO2基片上制备出c轴取向很好的Y1-xHOxBa2Cu3O7-δ(0<x≤1)超导薄膜。实验中所用的靶材由YBCO和HBCO超导材料各一半组成。随着HBCO靶材到加热器距离的变化,钬的含量发生变化,当x=0.7(原子比),零电阻温度T∞>83K。
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关 键 词: | Y_(1-x)HO_xBa_2Cu_3O_(7-δ),超导体,薄膜,直流磁控溅射,高临界温度 |
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