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用分割靶法制备Y_(1-x)Ho_xBa_2Cu_3O_(7-δ)超导薄膜
作者姓名:彭正顺  杨秉川  王小平  石东奇  华志强  赵忠贤
作者单位:北京有色金属研究总院,中国科学院物理研究所
摘    要:本文利用直流磁控溅射技术,在(100)钇稳定的ZrO2基片上制备出c轴取向很好的Y1-xHOxBa2Cu3O7-δ(0<x≤1)超导薄膜。实验中所用的靶材由YBCO和HBCO超导材料各一半组成。随着HBCO靶材到加热器距离的变化,钬的含量发生变化,当x=0.7(原子比),零电阻温度T∞>83K。

关 键 词:Y_(1-x)HO_xBa_2Cu_3O_(7-δ),超导体,薄膜,直流磁控溅射,高临界温度
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