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浮法硼硅酸盐玻璃下表面渗锡的研究
引用本文:陆平,程金树,刘清. 浮法硼硅酸盐玻璃下表面渗锡的研究[J]. 玻璃与搪瓷, 2007, 35(5): 11-15
作者姓名:陆平  程金树  刘清
作者单位:武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室,武汉,430070
摘    要:根据实验样品的成分,制定一定的浮法成型的温度制度,采用自制小型石墨锡槽,模拟硼硅酸盐玻璃的浮法成型过程,用电子探针结合能谱仪,测试浮法硼硅酸盐玻璃在1250~650℃温度范围内不同温度段下表面渗锡的分布情况,研究硼硅酸盐玻璃不同于传统钠钙硅浮法玻璃的渗锡特点。研究结果表明,在特定的浮法工艺制度下,硼硅酸盐玻璃渗锡的深度达到40μm左右,并且高温段锡离子以纵向深度扩散为主,低温下锡离子主要在玻璃的近表面富集。在浮法成型的过程中,渗锡的分布曲线上会出现卫星峰,但是最终在出锡槽的温度下渗锡曲线是单调递减的。

关 键 词:浮法硼硅酸盐玻璃  渗锡  电子探针  扩散系数
文章编号:1000-2871(2007)05-0010-05
修稿时间:2007-04-16

Study on Tin Penetration into Bottom Surface of Float Borosilicate Glass
LU Ping,CHENG Jin-shu,LIU Qing. Study on Tin Penetration into Bottom Surface of Float Borosilicate Glass[J]. Glass & Enamel, 2007, 35(5): 11-15
Authors:LU Ping  CHENG Jin-shu  LIU Qing
Affiliation:Key Laboratory of Silicate Materials Science and Engineering of Ministry of Education, Wuhan University of Technology, Wuhan 430070, China
Abstract:
Keywords:float borosilicate glass  tin penetration  electron probe microanalyzer  diffusion coefficient
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