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采用氨化技术制备成簇生长的光滑线状氮化镓
引用本文:孙莉莉,薛成山,孙传伟,艾玉杰,庄惠照,王福学. 采用氨化技术制备成簇生长的光滑线状氮化镓[J]. 微细加工技术, 2007, 2(2): 34-35,40
作者姓名:孙莉莉  薛成山  孙传伟  艾玉杰  庄惠照  王福学
作者单位:1. 山东师范大学,半导体研究所,济南,250014
2. 济南大学,信息科学与工程学院,济南,250022
摘    要:通过在1 000℃时氨化Ga2O3/MgO/Si(111)薄膜15 min,制备出成簇生长的光滑的长直线状GaN。用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和高分辨率电子显微镜(HRTEM)对样品进行测试分析。结果表明,线状GaN为六方纤锌矿结构单晶相,表面光滑,且成簇生长,直径在200 nm~400 nm左右,其长度可达5μm~20μm。

关 键 词:磁控溅射  线状
文章编号:1003-8213(2007)02-0034-02
修稿时间:2006-09-11

Smooth and Thread-shaped GaN Grown in Cluster by Ammoniating Technique
SUN Li-li,XUE Cheng-shan,SUN C-huan-wei,AI Yu-jie,ZHUANG Hui-zhao,WANG Fu-xue. Smooth and Thread-shaped GaN Grown in Cluster by Ammoniating Technique[J]. Microfabrication Technology, 2007, 2(2): 34-35,40
Authors:SUN Li-li  XUE Cheng-shan  SUN C-huan-wei  AI Yu-jie  ZHUANG Hui-zhao  WANG Fu-xue
Abstract:
Keywords:GaN
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