| Ar离子轰击Ag靶的溅射角分布 |
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| 引用本文： | 潘浩昌,陶振兰,郑里平,曹德新,张衡山,张阿虎,周祖尧,周伟.Ar离子轰击Ag靶的溅射角分布[J].核技术,1988(5). |
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| 作者姓名： | 潘浩昌 陶振兰 郑里平 曹德新 张衡山 张阿虎 周祖尧 周伟 |
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| 作者单位： | 中国科学院上海原子核研究所
(潘浩昌，陶振兰，郑里平，曹德新)，上海半导体器件研究所
(张衡山，张阿虎)，中国科学院上海冶金研究所
(周祖尧)，中国科学院上海冶金研究所(周伟) |
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| 摘 要： | 本文描述了用溅射粒子捕集器和Rutherford背散射分析测定溅射粒子角分布的实验方法。给出了100keV Ar~+在入射角分别为0°、30°、50°和80°时轰击Ag靶的溅射角分布。角分布偏离余弦形状,有前倾趋势。溅射产额随入射角增大而迅速增加。由50keV Ar~+垂直入射Ag的溅射角分布计算出的总溅射产额为16.8±2.4~(atoms)/Ar~+。实验结果与理论值进行了比较,并作了定性分析。
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| 关 键 词： | 溅射 溅射角分布 |
Angular distributions of atoms sputtered with Ar~+ ions from Ag target |
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| Pan Haochang Tao Zhenlan Zheng Liping Cao Dexin.Angular distributions of atoms sputtered with Ar~+ ions from Ag target[J].Nuclear Techniques,1988(5). |
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| Authors: | Pan Haochang Tao Zhenlan Zheng Liping Cao Dexin |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | sputtering sputtering angular distribution |
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