ITO薄膜和新型金属化对双面TOPCon电池电性能的影响研究

使用磁控溅射设备制备ITO薄膜和全面积银电极，该文分析了ITO薄膜沉积速率、方块电阻、电阻率和透射率的变化情况，以确定最佳工艺，再对电池的发射极和n型多晶硅钝化性能进行测试分析。使用最佳工艺在TOPCon半成品电池正面和背面沉积ITO薄膜和银电极，测试、分析其对电性能的影响。研究结果表明，当溅射时间为24 min时，电阻率相对较小，透过率对应值大约为88%和86%。当正面光照IV测试时，TOPCon电池背面沉积ITO薄膜和银电极比常规浆料印刷电极的短路电流、填充因子和转换效率分别高了61 mA、1.6%和0.28%，且全面积金属电极与氧化硅层、衬底及多晶硅层的接触电阻满足要求。