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杂志ISSN号
化学镀铜溶液稳定机理的研究
作者姓名:
许盛光
作者单位:
电子工业部第54研究所
摘 要:
在厌氧条件下,测得了化学镀铜槽液中的不稳定中间络合物二—(2,2’—联吡啶)合铜(Ⅰ)络离子的电子光谱,测定了其生成及氧化动力学数据,提出了循环反应稳定机理,并研究了主盐与主络合剂及稳定剂的热力学稳定性之间的关系,指出研究提高化学镀铜槽液稳定性的一些原则。
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