首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

化学镀铜溶液稳定机理的研究
作者姓名:许盛光
作者单位:电子工业部第54研究所
摘    要:在厌氧条件下,测得了化学镀铜槽液中的不稳定中间络合物二—(2,2’—联吡啶)合铜(Ⅰ)络离子的电子光谱,测定了其生成及氧化动力学数据,提出了循环反应稳定机理,并研究了主盐与主络合剂及稳定剂的热力学稳定性之间的关系,指出研究提高化学镀铜槽液稳定性的一些原则。

本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号