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| 应用透表法透过Si3N4＋SiO2钝化层内窥透视成品IC的研究 | |
| 作者姓名： | 胡问国 肖玲 林一平 梁竹关 李亚文 李萍 兰得春 王建 周开邻 Rau E I |
| 作者单位： | [1]云南大学物理技术学院 [2]云南大学信息学院,云南昆明650091 [3]昆明物理研究所,云南昆明650223 [4]莫斯科大学,云南昆明650223 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目（No.60227102）,国家科学技术部973前期项目资助. |
| 摘 要： | 本文介绍了一种新的能透过成品集成电路表面Si3N4＋SiO2钝化层无损显微内窥透视检测其下集成电路的微结构和缺陷的方法。 |
| 关 键 词： | 钝化层 成品 内窥 IC 应用 集成电路 微结构 |
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