|
|||||
|
|
| 无掩模光刻技术的最新进展 | |
| 作者姓名： | 莫大康 |
| 作者单位： | 应用材料中国公司顾问 |
| 摘 要： | 据VLSI的报道,尽管浸入式光刻技术似乎为全球半导体工艺路线图又打开一扇明亮的窗. |
| 关 键 词： | 光刻技术 无掩模 VLSI 半导体工艺 光刻机 波音 估计 美元 价格 客户 |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ | |
|
||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |