| InSb半导体材料的抛光液研究 |
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| 引用本文： | 刘承霖,刘玉岭,张伟,武晓玲,贾英茜.InSb半导体材料的抛光液研究[J].半导体技术,2006,31(12):912-914. |
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| 作者姓名： | 刘承霖 刘玉岭 张伟 武晓玲 贾英茜 |
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| 作者单位： | 河北工业大学,微电子所,天津,300130;河北工业大学,微电子所,天津,300130;河北工业大学,微电子所,天津,300130;河北工业大学,微电子所,天津,300130;河北工业大学,微电子所,天津,300130 |
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| 摘 要： | InSb薄膜被广泛应用于光电元件、磁阻元件、霍尔元件以及晶体管结构器件之中.研究了一种应用于的抛光液,在一定压力、温度、转速下,以有机碱替代无机碱,通过添加螯合剂、活性剂降低产品表面粗糙度,减少划伤,表面污染小.
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| 关 键 词： | 锑化铟 抛光液 抛光 划伤 粗糙度 |
| 文章编号： | 1003-353X(2006)12-0912-03 |
| 收稿时间： | 2006-06-20 |
| 修稿时间： | 2006年6月20日 |
Study on InSb Semiconductor Material for Polishing Slurry |
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| LIU Cheng-lin,LIU Yu-ling,ZHANG Wei,WU Xiao-ling,JIA Ying-qian.Study on InSb Semiconductor Material for Polishing Slurry[J].Semiconductor Technology,2006,31(12):912-914. |
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| Authors: | LIU Cheng-lin LIU Yu-ling ZHANG Wei WU Xiao-ling JIA Ying-qian |
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| Affiliation: | Microelectronics Institute, Hebei Industrial University, Tianjin 300130, China |
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| Abstract: | InSb films are widely used in optoelectronic components, reluctance components, Hall element and transistor structure devices. The research on CMP slurry of semiconductor material InSb was proposed, in a certain pressure, temperature, rotational speed, with organic alkali alternative inorganic alkali, through the addition of aogeji, reactive agents to reduce surface roughness of products, reducing scratch and contamination. |
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| Keywords: | InSb polishing slurry polishing scratch roughness |
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