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| 杂质对光学薄膜激光损伤阈值的影响 | |
| 作者姓名： | 胡海洋 范正修 刘晔 赵强 范瑞瑛 黄日成 |
| 作者单位： | 中国科学院上海光机所,上海,201800 |
| 摘 要： | 通过对一系列１０６μｍＨｆＯ２／ＳｉＯ２全反膜样品进行的激光损伤阈值测试，以及二次离子质谱杂质含量测定的结果进行的比较分析，提出了减小膜系制备过程中杂质污染是提高光学薄膜激光损伤阈值行之有效的途径。将理论分析运用于具体生产实践中，获得了令人满意的结果。 |
| 关 键 词： | 杂质，激光损伤阈值，二次离子质谱，光学薄膜 |
| 收稿时间： | 1997-12-25 |
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