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化学气相沉积法合成Si3N4纳米带的研究
引用本文:李思婷,李增祎,傅煜然,刘丽,谭嘉林,赵文科,谭浩博,陈洋.化学气相沉积法合成Si3N4纳米带的研究[J].非金属矿,2023(5):1-3.
作者姓名:李思婷  李增祎  傅煜然  刘丽  谭嘉林  赵文科  谭浩博  陈洋
作者单位:湖南工学院材料科学与工程学院
基金项目:湖南省教育厅科学研究优秀青年项目(22B0856);
摘    要:以Si粉、酚醛树脂和硝酸铁为原料,采用化学气相沉积法在氮气气氛下合成Si3N4纳米带。研究了热处理温度和硝酸铁添加量对合成Si3N4纯度和形貌的影响。结果表明,在非催化作用下,热处理温度升高有利于提高Si3N4纯度;温度为1 500℃时,合成高纯Si3N4,其中α-Si3N4和β-Si3N4生成量分别为91%和9%。添加催化剂显著影响Si3N4形貌,其形貌由直线形带状结构演变为蜷曲的带状结构,具有这种带状结构的Si3N4为α-Si3N4;当硝酸铁添加量为5%时,α-Si3N4生成量较高,为95%。

关 键 词:Si3N4纳米带  催化  化学气相沉积法  显微结构
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