| 集成微电路基板清洗新技术与ODS清洗技术 |
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| 引用本文： | 雷文德. 集成微电路基板清洗新技术与ODS清洗技术[J]. 洗净技术, 2004, 0(9): 35-37 |
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| 作者姓名： | 雷文德 |
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| 作者单位： | 广州合琪环保科技有限公司,510070 |
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| 摘 要： | 文章介绍了集成微电路基板清洗领域的ODS替代清洗技术，着重介绍了十槽式超声波清洗机在高精度的集成电路清洗工艺中的具体应用。
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| 关 键 词： | 集成电路 清洗 超声波清洗机 ODS替代清洗技术 |
| 文章编号： | 1672-2248(2004)09-0035-03 |
| 修稿时间： | 2004-06-20 |
New Process and ODS Process for Cleaning Substrate of Integrated Micro-Circuit |
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| Lei Wende. New Process and ODS Process for Cleaning Substrate of Integrated Micro-Circuit[J]. , 2004, 0(9): 35-37 |
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| Authors: | Lei Wende |
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| Abstract: | The paper introduces ODS alternative cleaning process for cleaning substrate of integratedmicro-circuit with focus on the utilization of 10-sump ultrasonic cleaning machine for cleaning high precisionIC. |
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| Keywords: | IC cleaning Ultrasonic cleaning machine ODS alternative cleaning process |
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