| 短脉冲激光辐照下熔融石英薄膜的损伤机理 |
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| 引用本文： | 黄才华,薛亦渝,夏志林,赵元安,杨芳芳,郭培涛.短脉冲激光辐照下熔融石英薄膜的损伤机理[J].武汉理工大学学报(信息与管理工程版),2008,30(6). |
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| 作者姓名： | 黄才华 薛亦渝 夏志林 赵元安 杨芳芳 郭培涛 |
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| 作者单位： | 1. 武汉理工大学汽车工程学院,湖北武汉,430070
2. 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金
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国家自然科学基金
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| 摘 要： | 激光诱导薄膜损伤过程中,崩离化(AI)和多光子离化(MPI)的性质和作用到目前仍然存在争议.基于STUART等人的电子密度演化方程.运用数值模拟方法,研究了脉宽为τ∈0.01,5]ps范围内单脉冲激光作用下熔融石英薄膜中电子密度演化过程;讨论了初始电子密度、激光脉冲宽度对阈值功率密度和阈值能量的影响;分析了初始电子密度、激光脉冲宽度对多光子离化及雪崩离化的影响.研究结果表明,在所研究的脉宽范围内,对于熔融石英光学薄膜、飞秒激光诱导损伤以雪崩离化为主导,多光子离化的影响随着脉宽的降低而增强,雪崩离化所需种子电子主要来源于多光子离化.
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| 关 键 词： | 激光诱导损伤 多光子离化 雪崩离化 初始电子密度 损伤阚值能量 |
Damage Mechanism of Fused Silica Optical Dielectric Film Irradiated by Short Pulse Laser |
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| HUANG Caihua,XUE Yiyu,XIA Zhilin,ZHAO Yuanan,YANG Fangfang,GUO Peitao.Damage Mechanism of Fused Silica Optical Dielectric Film Irradiated by Short Pulse Laser[J].Journal of Wuhan University of Technology(Information & Management Engineering),2008,30(6). |
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| Authors: | HUANG Caihua XUE Yiyu XIA Zhilin ZHAO Yuanan YANG Fangfang GUO Peitao |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | laser-induced damage multi-photon ionization avalanche ionization initial electron density damage threshold fluence |
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