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低温多晶硅薄膜的制备工艺研究
引用本文:杨定宇,蒋孟衡,杨军.低温多晶硅薄膜的制备工艺研究[J].真空,2008,45(1):41-44.
作者姓名:杨定宇  蒋孟衡  杨军
作者单位:成都信息工程学院光电技术系,四川,成都,610225
基金项目:四川省应用基础研究计划
摘    要:低温多晶硅薄膜是制备高性能薄膜晶体管的首选材料,由其制成的薄膜晶体管由于在平板显示器件驱动中所展现的优越性能而受到广泛关注。本文系统介绍了低温多晶硅薄膜的三种制备方法-金属诱导横向晶化法、准分子激光晶化法和电感耦合等离子体化学气相沉积法的原理和研究进展,比较了它们之间各自的优缺点,最后对该领域的发展前景进行了展望。

关 键 词:低温多晶硅薄膜  金属诱导横向晶化  准分子激光晶化  电感耦合等离子体化学气相沉积  低温多晶硅  膜的制备  工艺研究  films  processes  preparation  前景  发展  比较  研究进展  原理  气相沉积法  化学  等离子体  电感耦合  准分子激光晶化  横向晶化  金属诱导  方法  系统
文章编号:1002-0322(2008)01-0041-04
收稿时间:2007-03-05
修稿时间:2007年3月5日

Research on preparation processes of low-temperature poly-silicon films
YANG Ding-yu,JIANG Meng-heng,YANG Jun.Research on preparation processes of low-temperature poly-silicon films[J].Vacuum,2008,45(1):41-44.
Authors:YANG Ding-yu  JIANG Meng-heng  YANG Jun
Abstract:
Keywords:LTPS  MILC  ELA  ICP-CVD
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