抗蚀剂近年发展动态 |
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引用本文: | 夏明德,浦家诚.抗蚀剂近年发展动态[J].影像材料,1989(5):21-25. |
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作者姓名: | 夏明德 浦家诚 |
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作者单位: | 苏州大学化学系,苏州大学化学系 |
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摘 要: | 前言自从聚乙烯醇肉桂酸酯、环化橡胶、邻叠氮醌类等光刻胶的相继问世,伴随着紫外光刻技术的发展,抗蚀剂的研制工作正日新月异。进入八十年代,超大规模集成电路、磁泡等器件要求分辨率达亚微米级,由此出现了 X-射线抗蚀剂、电子束抗蚀剂以及深紫外抗蚀剂。本文就它们的现状作些综述。
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关 键 词: | 抗蚀剂 X射线 紫外光 电子束 |
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