| 中频磁控溅射周期性变电流（Ti，Al）N多层薄膜的结构与性能 |
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| 引用本文： | 罗庆洪,孙丽丽,杨会生,王燕斌,陆永浩,于栋利.中频磁控溅射周期性变电流（Ti，Al）N多层薄膜的结构与性能[J].现代科学仪器,2008(4). |
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| 作者姓名： | 罗庆洪 孙丽丽 杨会生 王燕斌 陆永浩 于栋利 |
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| 作者单位： | 1. 北京科技大学材料物理与化学系,北京,100083
2. 燕山大学材料科学与工程学院,河北,066004 |
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| 摘 要： | 使用独特的镶拼矩形TiAl靶,用中频反应磁控溅射方法,采用周期性改变靶电流的方法在高速钢(W18Cr4V)基体上沉积了(Ti,Al)N多层薄膜.利用场发射扫描电镜、纳米硬度仪和x射线衍射仪等方法研究了(Ti,Al)N多层薄膜组织结构、硬度和膜基结合性能.结果表明,制备的(Ti,Al)N多层薄膜硬度略低于20GPa.弹性模量均大于230GPa,薄膜的临界载荷均大于50N;多层薄膜有一定的择优取向,且择优取向随着靶电流周期性的改变而有所变化.同时发现,(Ti,Al)N多层薄膜硬度是结构、界面和择优取向共同作用的结果.
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| 关 键 词： | 显微结构 中频反应磁控溅射 Al)N多层薄膜 |
Microstructure and Properties in(Ti,AI)N Multilayer Films Deposited by MF-Magnetron Sputtering on Periodical Target Current Condition |
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| Luo Qinghong,Sun Lili,Yang Huisheng,Wang Yanbin,Lu Yonghao,Yu Dongli.Microstructure and Properties in(Ti,AI)N Multilayer Films Deposited by MF-Magnetron Sputtering on Periodical Target Current Condition[J].Modern Scientific Instruments,2008(4). |
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| Authors: | Luo Qinghong Sun Lili Yang Huisheng Wang Yanbin Lu Yonghao Yu Dongli |
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| Keywords: | (Ti |
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