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杂志ISSN号
高温超导陶瓷材料布线展望
作者姓名:
钱叶华
作者单位:
无锡微电子联合公司科研中心
摘 要:
最近,IBM研究中心在Mg与Al_2O_3衬底上淀积高温超导膜,经过光刻和注入,制作了超导干涉元件。日立制作所推出了三端子超导晶体管,并用光刻和反应刻蚀,制成了超导陶瓷磁通计。笔者设想VLSI中,能否利用半导体工艺实现超导布线,在Si上直接涂超导膜,Si易向陶瓷中扩散。美国已有在Si上涂ZrO_2作过渡层,再淀积超导膜,效果良好。
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